Forskningsassistent i oorganisk kemi

Institutionen för kemi - Ångström bedriver forskning och utbildning inom kemiämnet. Institutionen har 270 anställda och omsätter 290 miljoner kronor. Vid institutionens sex program bedrivs mycket framgångsrik forskning av hög internationell klass. Vi har ett stort antal externt finansierade forskningsprojekt, ofta med internationellt samarbete och vi ser en fortsatt god tillväxt inom vårt ämnesområde. Institutionen har utbildningsuppdrag inom ingenjörs- och civilingenjörsprogram samt masterprogram. Mer information finns på vår hemsida. 

Arbetsuppgifter
Arbetsuppgifterna går ut på att utveckla och igångsätta ett system för kemisk ångdeponering (chemical vapor deposition, CVD), inklusive säkerhetsaspekter och riskbedömningar, detaljerad teknisk genomgång av systemet, testning och utvärdering.

Kvalifikationskrav
Vi söker någon som har studerat i högre årskurser, civilingenjör K eller motsvarande. 

För anställningen krävs

• Genomförda studier i högre årskurser i civilingenjör K eller motsvarande
• Mycket goda kunskaper i engelska, i tal och skrift.
• Djupa kunskaper inom kemi och stort intresse för tunnfilmstillverking med CVD, vakuumsystem, och kemiska beläggningsprocesser, samt förmåga att dokumentera och kommunicera detta.

Stor vikt kommer också läggas vid personlig lämplighet. Hänsyn kommer att tas till god samarbetsförmåga, driv och självständighet samt hur den sökande genom sin erfarenhet och kompetens bedöms komplettera och stärka forskningen inom avdelningen/institutionen samt bidra till dess framtida utveckling

Om anställningen 
Anställningen är tidsbegränsad, 3månader. Omfattningen är 100%. Tillträde enligt överenskommelse. Placeringsort: Uppsala

Upplysningar om anställningen lämnas av: Professor Per Eklund, per.eklund@kemi.uu.se 

Välkommen med din ansökan senast den 20 maj 2024, UFV-PA 2024/1555.